各位高手，想请教一个问题：混床设备的排水装置。
我查了很多文献，但是权威的文献没有注明。混床设备的排水装置到底是用 穹形孔板石英砂垫层还是 多孔板水帽式？
离子交换的排水装置，文献都建议这两种，排水设备对布集水的均匀性要求很高，一般中小型设备采用的是 多孔板水帽式，而大型的设备， 穹形孔板石英砂垫层。（当然石英砂在使用前需要用HCI浸泡去除杂质，而且石英砂要用99%含量SIO2的）
但是有些资料又显示，不可以用 穹形孔板石英砂垫层。因为运行阻力大，存在漏硅现象和有机物在隙缝里滋生。这下我有点蒙了？
SIO2的化学稳定性高啊，只会跟浓碱加热反应，盐酸的话不会，混床运行再生的时候，SIO2不会反应的吧？怎会会漏硅？而且阴阳床也会用 穹形孔板石英砂垫层。

而在《火电厂化学设计规程》行业标准中有一项是：
7.2.11 在无垫层离子交换器及混合离子交换器的出口，应设置树脂捕捉器。树脂捕捉器宜有反冲洗水管。
（言下之意就是说混床没有垫层么？不知道会不会断章取义）

请各位高手，指点一下，为什么阳阴床能用 穹形孔板石英砂垫层。而混床却说不可以？在实际操作和运行过程中是否会有问题出现呢？万分感谢了！！！