随着半导体生产用去离子水设备技术性能的不断完善，设备的自动控制功能得到了很大的提升，使设备操作运行更为简单便捷，对设备的运行保护更是起到了重要的作用，下面为大家详细介绍一下半导体生产用去离子水设备具备的自动控制功能：

　　1、高压泵的控制。高压泵进口压力低于设定值时，自动停止泵的运行。高压泵出口压力高于设定值时，自动停止泵的运行。半导体生产用去离子水设备高压泵需要采用变频控制，通过调节泵的运行频率，控制泵的出口压力。

　　2、反渗透装置的程序启动和停止。半导体生产用去离子水设备应自动完成包括加药泵，高压泵，电动慢开门等按顺序启动和停止。

　　3、半导体生产用去离子水设备启动和停运时的自动低压表面冲洗，反渗透装置启动或停运时，自动打开电动冲洗排水阀，对膜表面进行低压冲洗，将膜元件内的浓水冲洗干净。

　　4、异常运行状态的监测，报警。在半导体生产用去离子水设备运行过程中，控制系统自动对各设备如高压泵，加药泵，电动阀等的运行状况进行监测，并输出报警信号。自动对温度，流量，压力，液位，电导率，氧化还原电位，PH值等运行参数进行监测，异常运行状态时报警，并根据不同的情况决定是否停运反渗透装置。

　　5、加药量的自动控制调节。通过反渗透给水管道上的流量，氧化还原电位，PH值的测量仪表输出的电流信号或脉冲信号，自动调节各加药泵的输出投加药品量，实现加药量的按比例自动调节。

　　以上就是为大家介绍的半导体生产用去离子水设备的自动控制功能，希望对大家有帮助。