半导体封装厂研磨废水系统控制条件请求帮助
iamdhj
iamdhj Lv.2
2008年01月24日 12:45:47
来自于水处理
只看楼主

我们公司有一套处理处理半导体封装厂研磨废水的系统,废水主要成分是硅.工艺为:PH调节→混凝→絮凝→沉淀;PH调节用的是30%的NaOH,正常控制在10-11之间;混凝剂用的是20%的Fecl3溶液;絮凝剂用的是PAM(聚炳烯酰胺:分子量800万)现在问题是:为了保证出水水质,混凝槽的PH值控制一直偏低(正常都在5.5-6.0之间),一旦高于6或低于5.5,絮凝槽絮凝效果就会变差,进而影响到出水水质,但如果一直保持这样的控制,出水的PH又会偏低,稍不留意,就会低于指标6,所以特请大家帮分析一下原因?谢谢!

我们公司有一套处理处理半导体封装厂研磨废水的系统,废水主要成分是硅.
工艺为:PH调节→混凝→絮凝→沉淀;PH调节用的是30%的NaOH,正常控制在10-11之间;混凝剂用的是20%的Fecl3溶液;絮凝剂用的是PAM(聚炳烯酰胺:分子量800万)
现在问题是:为了保证出水水质,混凝槽的PH值控制一直偏低(正常都在5.5-6.0之间),一旦高于6或低于5.5,絮凝槽絮凝效果就会变差,进而影响到出水水质,但如果一直保持这样的控制,出水的PH又会偏低,稍不留意,就会低于指标6,所以特请大家帮分析一下原因?谢谢!
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iamdhj
2008年01月25日 08:24:00
2楼
自顶一下
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wwentao
2008年01月26日 21:03:07
3楼
没有做过絮凝剂的杯罐试验吗?
挑选一种在你需要的PH值范围内能达到较好絮凝效果的絮凝剂是根本的解决办法。
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iamdhj
2008年01月27日 07:49:50
4楼
我们的出水PH指标是6-9,现在出水一直在6.5以下,很不稳定,我想问的是如何提高出水PH!还要保证出水水质
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zengheng
2008年03月03日 17:34:58
5楼
你们厂用的是FeCl3作为混凝剂,它的pH最好控制在8~9.这样三价铁离子能更好的形成Fe(OH)3胶体.它的也在排放范围内.当然,如果想节约药剂消耗,可以将它的偏碱性出水排到AWN调节池,中和酸性废水.你们的CMP废水系统和HFW系统都可以这样处理.
另外,你们将pH值提升后出现的效果下降问题可能是沉淀池或者PAM混合等方面的问题(对你厂的CMP废水系统情况不太了解,我个人认为是这样的)
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zhang9401
2008年03月26日 15:21:52
6楼
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zhang9401
2008年03月26日 15:25:14
7楼
将工艺修改一下,加混凝剂→PH调节→混凝→絮凝→沉淀,你可以试试看,
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wxdy1992
2009年03月11日 20:16:44
8楼
研磨废水回收处理设备是我们公司生产的专业设备。研磨废水中主要是SS,而且颗粒度在100nm左右,不溶于水,也不易沉淀,用传统的絮凝处理工艺占地面积大,运行成本高,需要加药处理,出水稳定性差,而且水的回用比较困难。我们公司的制造的设备处理过程中不需要加任何药剂,运行成本低,处理后的水可以直接回用到RO系统中去。有兴趣者可和我联系。 neowater@163.com
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