请问一下各位以下工艺流程出水能否达到出水电导率＜0.3μs/cm 二氧化硅＜20μg/L.另请问一下其中的Na床和H床在此工艺中起什么作用？谢谢大家，请大家顶一下．急需答案．
　　地下水→生水池→生水泵→换热器→石英砂过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→高压泵→反渗透装置→除二氧化碳器→中间水池→中间水泵→Na床→H床→软化水箱→软化水泵→主厂房除氧器

在此深表感谢！！！