从事半导体制造、封装的生产用水，Q=6m3/h;电阻率大与等于16MΩ-cm。请教生产工艺？不知软化+RO+活性炭能否达到要求？有价格便宜的RO装置吗？aqua.zjh@2911.net.
从事半导体制造、封装的生产用水，Q=6m3/h;电阻率大与等于16MΩ-cm。请教生产工艺？
不知软化+RO+活性炭能否达到要求？
有价格便宜的RO装置吗？
aqua.zjh@2911.net.
2楼
一般不能,两级反渗透的出水在3μs/cm 以上
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3楼
谢谢，如果原水为自来水的话，需要在RO前装多介质过滤器吗？
软化+一级RO+EDI 可否？
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4楼
出水水质要求较高，光用RO根本无法达到要求。
可用市政水+预处理+一级RO+混床+抛光混床或市政水+预处理+一级RO+EDI+抛光混床
由于用于半导体制造业，应注意水中细菌颗数，采用UV杀菌后，应用微孔过滤器滤除细菌。终端水箱应尽量采用氮封水箱。
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5楼
谢谢ZhangLing_1105 ，如用市政水+预处理+两级RO+EDI颗否？投资比抛光混床高还是低？
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6楼
如用两级RO+EDI的话投资在两百万左右,离子交换就便宜多了
13880509506
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7楼
可用自来水+多介质+活性碳+(可能要软化)+精滤器+一级RO+UV+热备用三混床系统+UV+抛光混床(保安用)+0.22精滤+30%回用系统
6t/h系统大约在70~80万元(RMB)
具体大家可以探讨.
13328101115
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8楼
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上海清华紫光环境工程有限公司安徽办事处
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9楼
看什么水质了，在深圳只需
可用自来水+多介质+活性碳+(可能要软化)+精滤器+一级RO+备用三混床系统+UV+0.22精滤
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