一个半导体厂，出水要求18.1兆，其它省略。工艺为：预处理（UF）+一级RO+2B3T+二级RO+后处理
一个半导体厂，出水要求18.1兆，其它省略。工艺为：预处理（UF）+一级RO+2B3T+二级RO+后处理
12楼
2B3T是两床三塔，就是常说的复床系统
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13楼
谢谢蛙仔
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14楼
半导体厂的纯水要求高，电阻只是一个指标，还有TOC等其他指标。在保证出合格的前提下，系统的稳定性是优先考虑的。长流程能保证系统的稳定性，即使其中某台设备故障，也不会影响整个流程。虽然造价增加，但与半导体厂的总造价比，不成比例。
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15楼
2B3T其实就是阴阳床加混床，不过这套工艺中的2级RO简直就是多余，一级RO+MB+EDI即可，若为安全性，再加抛光混床
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16楼
超纯水不仅仅要求电阻率的.二级RO不能说是多余的.国外甚至有用RO做超纯水终端的.
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17楼
采用二级反渗透+EDI+抛光混床即可达到要求
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18楼
二级RO浪费了，2B3T应可达到18兆水的，后面的后处理是什么东西？
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19楼
半导体不光水电阻值有要求还有TOC,微粒子这些要求，2B3T出水应该有树脂溶出物TOC上升，用二级RO就是一个过滤作用TOC 微粒子会降不少。后处理应该还有祛除TOC的UV灯和UF膜，有了二级RO后端TOC酸化灯和UF膜的负荷应该小很多，这样终端的水质才能得到保证。
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20楼
小鬼子的设计过于保守了
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21楼
超纯水工艺见过有四种，
不知道你到底想知道什么。。。
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