一个半导体厂，出水要求18.1兆，其它省略。工艺为：预处理（UF）+一级RO+2B3T+二级RO+后处理
一个半导体厂，出水要求18.1兆，其它省略。工艺为：预处理（UF）+一级RO+2B3T+二级RO+后处理
2楼
没看懂，楼主的2B3T究竟指什么？是1RO后面的又一部工艺？而且你写的太简单了，2RO后处理用什么工艺？是EDI，抛光树脂，还是终端UF？
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3楼
同意3楼版主说法，再加RO简直就是浪费
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4楼
应该是电子级的吧，半导体生产用水吧
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5楼
三楼，2B3T是个什么东东，代表什么工艺，一级RO+2B3T就可达到十八zhao
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6楼
2B3T填什么树脂?
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7楼
在详细点.
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8楼
各位朋友，大家好，我建立了一个群，希望广大做工程和销售，预算的朋友能够参加，希望对大家有所帮助。QQ: 30969079
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9楼
绝对还有其它的指标啦
那小日本是那个啊？
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10楼
2B3T是个什么工艺？请指教
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11楼
半导体行业要求纯水水质较高，这套系统应该能达到楼主所需的要求。
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