一个半导体厂，出水要求18.1兆，其它省略。工艺为：预处理（UF）+一级RO+2B3T+二级RO+后处理
一个半导体厂，出水要求18.1兆，其它省略。工艺为：预处理（UF）+一级RO+2B3T+二级RO+后处理
22楼
1\2B3T就是指复床,中间加脱气塔;
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23楼
抛开水质要求（进水or出水）来谈工艺，上面有结论的朋友们，你们的结论又有多可靠?
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24楼
双级RO+EDI+抛光混床＋精密过滤即可
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25楼
工艺复杂！
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26楼
不要说日本人不行，人家这么做肯定有道理吧？要不现在各大超市里全是日本人的电器？
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27楼
日本鬼子，我就是补喜欢
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28楼
半导体的系统要求的是稳定，这样的系统的抗风险的能力很大的。不过一级RO可以省略的。
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29楼
这是一个豪华的配置,只有日本人才会这样设计，欧美公司一般会设计二级RO系统，其实也很保证！但是二级RO真是要注意中间加碱！
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30楼
这个工艺确实有点奇怪，用二级反渗透做精处理的？
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31楼
这个流程貌似在哪里见过啊，小日本就会忽悠，骗钱，靠
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