我想了解一下目前电子行业用的超纯水的处理工艺和其出水的电阻率
我想了解一下目前电子行业用的超纯水的处理工艺和其出水的电阻率
2楼
主要的处理工艺是一级除盐后，经过混床或EDI，这样能达到0。2us/cm,如果要求更高一点，则要用二级混床来处理。
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3楼
多介质过滤+活性炭过滤+精滤+RO+混床或者改混床为EDI，
本人原来做过一个1级2段加1级混床的项目，再生后出水的电阻率可到16M，不过我们的要求是大于5M就好，一般再生周期4天。
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4楼
谢谢，各位赐教，
能弄点资料吗/
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5楼
主要工艺有一级反渗透+混床、二级反渗透+混床、二级反渗透+EDI
出水水质没问题
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6楼
版主這個工藝是目前打多數半導體廠使用的工藝，這個工藝出水水質相當穩定，我有個建議終端超濾改為精密過濾器
較省水不之可行否？
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7楼
为什么呢？
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