砼规中11.7.15.2中"对暗柱不应小于LC和BW乘积的1.2%",而抗规中6.4.7,高规中7.2.16均规定为"阴影面积(即λV与BW乘积的区域),的1.2%",另外本人个人理解,计算约束边缘构件纵筋或构造纵筋均设在λV区域,那么λV/2的区域的纵筋呢?
砼规中11.7.15.2中"对暗柱不应小于LC和BW乘积的1.2%",而抗规中6.4.7,高规中7.2.16均规定为"阴影面积(即λV与BW乘积的区域),的1.2%",另外本人个人理解,计算约束边缘构件纵筋或构造纵筋均设在λV区域,那么λV/2的区域的纵筋呢?
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