电镀工业废水处理的痛点

 电镀工厂(或车间)排出的废水和废液，如镀件漂洗水、废槽液、设备冷却水和冲洗地面水等，其 水质因生产工艺而异，有的含铬，有的含镍或含镉、含氰、含酸、含碱等。废水中的金属离子有的以 简单的阳离子形态存在（如 Ni2+、Cu2+）等，有的以酸根阴离子形式存在（如 CrO 酐）等，有的则 以复杂的络合阴离子形式存在（如 Au(CN)、Cd(CN)、Cu(P2O7) 等。一种废水中常含有一种以上的 有害成分，如氰化镀镉废水中既有氰又有镉。此外，一般镀液中常含有机添加剂。

 传统的电镀废水处理工艺，金属离子去除主要依靠添加氧化剂、还原剂、絮凝剂来处理，导致处 理后含有大量的盐和无机酸根残留在水中，增加了后续的处理难度，难以达到中水回用要求。

 传统的电镀废水处理工艺，因污水原水的水质波动，金属离子含量不稳定，在添加氧化剂、还原 剂时，难以做到一次性准确投放，往往需要多级处理或者多次回流重复处理，工艺复杂，成本较高。

 目前，电镀废水处理的难点主要有以下几个方面： 

1、多级处理，处理设施需要大量的水泥构筑物，占地面积大，设施建设成本高； 

2、添加大量氧化还原化学药剂，导致水中残留大量的无机酸根和盐份，给达标直排或中水回用 增大了困难； 

3、由于中水回用或生产回用水处理成本极高，不利于水资源的循环使用。 

4、添加大量的絮凝剂，有的工艺还添加大量的石灰，导致产生大量的污泥固废； 

5、污泥金属含量低，不利于金属的回收利用； 

6、自动化水平低，运维要求高； 

电镀工业废水处理的新技术

针对电镀废水处理的特点和难点，我公司研发了应用于工业废水处理一体化设备，在电镀废水处 理的测试中，获得了非常好的处理效果，我公司的一体化工业污水处理设备在处理电镀工业废水方面， 有以下优点： 

1、达标直排或中水回用的综合处理成本低； 

2、处理设施设备化，无需构建大量水泥构筑物，设施建设费用低； 

3、处理设施模块化，可垂直多层布置，占地面积小，土地成本低； 

4、金属离子去除无需添加氧化还原化学药剂，污水处理后不增加额外的无机酸根和盐份；

 5、金属离子分离采用高效过滤器物理分离，无需添加絮凝剂（和或石灰），含金属的污泥量少且 金属含量高，有利于金属回收利用；

 6、金属离子去除率高，抗冲击能力强，出水水质稳定； 

7、其他有机物产生的污泥，绝大部分由纳米气浮分离，并同步干化，污泥量极少； 

8、系统自动化程度高，运维成本低。

方案说明

 镀镍（高镍含铬）废水处理 

原水含镍约 200-400mg/L，极端条件下达到约 2700 mg/L。一体机处理后，去除率达到 95%以 上。一体机出水加碱后的上清液，加入到综合水，与综合水合并一起进行二次处理，二次处理后，出 水的镍含量≤0.1mg/L，符合 GB-21900_电镀废水标准的表 3 要求。

 高镍含铬废水量较少，而其中的铬含量也较少，与含镍废水合并处理，微量的铬在与综合水合并 处理时得以去除。 

一体化处理设备在处理过程中不需要添加任何化学药剂（碱除外），不会造成二次污染，处理后加 碱即可形成氢氧化镍沉淀，沉淀物经由一体机排污口排出，再经过高效沉淀池自然沉淀分离，即成为 高浓度金属固废，污泥量少，金属纯度高，不需要压泥机处理即可实现金属回收，回收率高，回收成 本低。

 镀铜废水处理

原水含铜约 200-400mg/L，极端条件下达到约 1400 mg/L。一体机处理后，去除率达到 95%以 上。由于镀铜废水含有机物较多，需要添加少量的絮凝剂辅助分离悬浮物。一体机出水加碱并加絮凝 剂后的上清液，加入到综合水，与综合水合并一起进行二次处理，二次处理后，出水的铜含量≤0.3mg/L， 符合 GB-21900_电镀废水标准的表 3 要求。

 一体化处理设备在处理过程中不需要添加任何化学药剂（碱除外），不会造成二次污染，处理后加 碱即可形成氢氧化铜沉淀，沉淀物经由一体机排污口排出，再经过高效沉淀池自然沉淀分离，即成为 高浓度金属固废，污泥量少，金属纯度高，不需要压泥机处理即可实现金属回收，回收率高，回收成 本低。 

镀铬废水处理原水含铬（总铬）约 200-400mg/L，极端条件下达到约 1600 mg/L。一体机处理后，去除率达 到 95%以上。一体机出水加碱后的上清液，加入到综合水，与综合水合并一起进行二次处理，二次处 理后，出水的铬（总铬）含量≤0.5mg/L，符合 GB-21900_电镀废水标准的表 3 要求。 

一体化处理设备在处理过程中不需要添加任何化学药剂（碱除外），不会造成二次污染，处理后加 碱即可形成氢氧化铬沉淀，沉淀物经由一体机排污口排出，再经过高效沉淀池自然沉淀分离，即成为 高浓度金属固废，污泥量少，金属纯度高，不需要压泥机处理即可实现金属回收，回收率高，回收成 本低。 

含氰废水处理 

原水含氰约 200-400mg/L。采用经济型一体机进行处理，一体机处理后，去除率达到 98%以上。 一体机出水加入到综合水，与综合水一起进行二次处理，二次处理后，出水的总氰化物含量≤0.3mg/L， 符合 GB-21900_电镀废水标准的表 3 要求。 

一体化处理设备在处理过程中不需要添加任何化学药剂，不会造成二次污染。 

含油（高有机物）废水处理原水含石油类约 200-400mg/L。采用经济型一体机进行处理除油处理，一体机处理后，去除率 达到 95%以上。一体机出水加入到综合水，与综合水一起进行二次处理，二次处理后，出水的石油类 含量≤3mg/L，符合 GB-21900_电镀废水标准的表 3 要求。

 一体化处理设备在处理过程中不需要添加任何化学药剂，不会造成二次污染。 

综合废水处理 

综合废水原水含金属离子较少，与高浓度废水一次处理后的出水合并后，金属离子稍微增加，但 是对综合废水的金属离子浓度不会造成明显影响。 综合废水与高浓度废水一次处理后的出水合并后，金属离子含量：铬（总铬）约 5-20mg/L，铜 约 5-20mg/L，镍约 5-25mg/L。

一体机处理后，去除率达到 95%以上，出水的金属离子含量：铬（总 铬）含量≤0.3mg/L，铜≤0.5mg/L，镍≤0.5mg/L，符合 GB-21900_电镀废水标准的表 3 要求。 

一体化处理设备在处理过程中不需要添加任何化学药剂（碱除外），不会造成二次污染，处理后加 碱即可形成氢氧化物沉淀，沉淀物经由一体机排污口排出，再经过高效沉淀池自然沉淀分离，即成为 高浓度金属固废，污泥量少，金属纯度高，不需要压泥机处理即可实现金属回收，回收率高，回收成 本低。 

中水回用水深度处理 

各种废水经过上述一体机处理、气浮分离和沉淀分离后，出水的 COD、NH3-N 仍然有部分未能 完全去除，需要进行深度处理。 在上述处理去除金属离子、TP 和绝大部分 COD、SS 等之后，排除了金属离子、SS、TP 等对氧 化化学反应的干扰，便于采用高级氧化技术去除剩余的 COD、NH3-N 等难降解的污染物。 为使出水达到中水回用要求，采用深度处理一体机进行深度处理，经过深度处理后，出水的各项 指标完全达到 GB-21900_电镀废水标准的表 3 要求和中水回用要求。

 生产回用水提标处理 

电镀生产用水对水质要求较高，不同的工艺对水质的要求有所不同。为了满足各电镀企业的生产 需要，在回用中水的基础上，需要进一步提高水质。 生产用回用水的提标处理，采用园区现有的阳离子树脂交换和超滤设备，处理后水质达到《HB 5472-1991 金属镀覆和化学覆盖工艺用水水质规范要求》，完全能够满足各类电镀企业的生产用水对 水质的需要。

 污泥处理 

一体化处理设备产生的污泥分为两部分，一部分以浮渣形式分离出来，并由一体机配套的污泥同 步干花装置压干为干污泥。另一部分为一体机定期排污产生的污泥，这部分污泥量较少。 高效沉淀池主要是氢氧化物沉淀产生的金属含量较高的污泥，污泥量少，只需要采用布袋式过滤 器过滤分离即可，有利于金属的回收利用。 回用中水深度处理产生少量的普通污泥，含水率较高，需要使用压泥机进行干化处理。

 固废处理 

由于电镀废水含盐较高，采用反渗透装置去除盐份，反渗透产生少量的高盐废水，这部分废水采 用蒸发结晶的工艺去除，结晶后含盐固废，由有资质的固废处理单位进行处理。 

应急措施 

电镀生产企业在生产过程中，污水排放会出现一些波动情况： 1、有个别企业往集污池倾倒电镀槽高浓度废水； 2、有个别企业排放高浓度废酸； 在上述情况下，对设备的处理后出水的金属离子含量有一定或较大的影响，表现为： 1、在个别企业往集污池倾倒电镀槽高浓度废水期间，对设备的处理后出水的金属离子含量有一 定的影响，残余金属离子浓度稍有上升，但是整体去除率波动不大。 2、在个别企业排放高浓度废酸的情况下，对设备的金属离子去除率有非常大的影响，金属离子 去除率大幅度下降，需要适当调整处理工艺，并进行二次处理。 上述情况是在污水处理过程中难以避免的特殊情况，在这种情况下，需要相应调整工艺予以应对。 回用中水（溢流直接排放水）水质指标 经过污水处理系统处理后，回用中水的水质指标达到《电镀污染物排放标准》（GB21900-2008）

表 3 标准要求： 序号 污染物项目 排放限值 1 总铬（mg/L） 0.5 2 六价铬（mg/L） 0.1 3 总镍（mg/L） 0.1 4 总镉（mg/L） 0.01 5 总银（mg/L） 0.1 6 总铅（mg/L） 0.1 7 总汞（mg/L） 0.005 8 总铜（mg/L） 0.3 9 总锌（mg/L） 1.0 10 总铁（mg/L） 2.0 11 总铝（mg/L） 2.0 12 PH 值 6～9 13 悬浮物（mg/L） 30 14 化学需氧量（CODcr，mg/L） 50 15 氨氮（mg/L） 8 16 总氮（mg/L） 15 17 总磷（mg/L） 0.5 18 石油类（mg/L） 2.0 19 氟化物（mg/L） 10 20 总氰化物（以 CN-计，mg/L） 0.2

生产回用水水质指标 经过生产用水提标处理系统处理后，回用生产用水的水质指标达到 HB 5472-1991 金属镀覆和 化学覆盖工艺用水水质规范的 C 要求：

 序号 指标名称 单位 水的类别 A B C 1 电阻率（25℃） Ω·cm ≥100000 ≥7000 ≥1200 2 总可溶性固体（TDS） mg/L ≤7 ≤100 ≤500 3 二氧化硅（SiO2） mg/L ≤1 —— —— 4 PH 值 5.5～8.5 5.5～8.5 5.5～8.5 5 氯离子[Cl-] mg/L ≤5 ≤12 ——

电镀污水污染物指标降解过程解析 金属离子-镍去除过程 镍金属离子的去除过程如下：