本发明涉及电解铜箔生产设备技术领域，具体地，涉及一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置，包括有多个引导密封圈的引导轮组件、清洁装置和工作台，所述工作台的端均设置有清洁水箱，工作台两侧均设置有用于将密