本实用新型涉及磁控溅射靶材技术领域，具体地，涉及一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座，包括有矩形的底座和加热装置，所述的底座的一端设置有矩形的卡槽，所述卡槽的一端设置有用于固定靶材的固定机构，加热装置包