二氧化硅研磨抛光液因其优异的化学稳定性、高纯度和良好的分散性，在许多高精度和高要求的领域中发挥着重要作用。去除二氧化硅研磨抛光液中的钾和钠离子是一个重要的步骤，特别是在对纯度要求较高的应用中。这些杂质