集团研发大楼位于，属框架剪力墙结构。地下1层，建筑面积14749.2㎡，±0.000为绝对标高23.000m，上部结构为地下室顶板上的23层主楼及1～3层裙楼，结构高度99.5m，建筑高度99.8m。