本图纸出水用于半导体材料，电阻率要求达到18.25MΩ·cm@25℃。设计采用两级反渗透+EDI+一级抛光混床的工艺，以确保出水水质达到用户要求。超纯水系统具体工艺为：“多介质过滤器+活性炭过滤器+软