某地四层框架结构工业研发大楼电气施工图
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上传:qq_1402714962654
2014-06-16
2.98分
本工程为生产研发大楼,总建筑面积15528.2M2。建筑层数:地上5层。建筑高度:顶层檐口至室外地面高度为22.15M。本设计包括红线内的以下内容:变配电室设计及土建条件待高压供电方案确定后出图;电力
某地四层框架结构工业研发大楼电气施工图_图1
某地四层框架结构工业研发大楼电气施工图_图2
某地四层框架结构工业研发大楼电气施工图_图3
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