去离子水设备抛光树脂更换及使用介绍
hect38637
hect38637 Lv.7
2015年07月24日 19:56:00
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  抛光混床,一般用于超纯水,(DI水设备)去离子水设备的后置处理当中,可以使用超纯水水质达到18.2M以上,能有效去除二氧化硅小于10ug/L。抛光树脂,属于混床的耗材,当水质不达标准时需要更换。    去离子水设备抛光树脂用前须知及抛光树脂更换方法   1.抛光树脂( MB-400)是由高度纯化、转型的H型阳树脂和OH型阴树脂混合而成,如果装填和操作得当,在最初的周期中即可制备出电阻率大于18.0MΩ.cm和TOC小于10ppb的超纯水,无需化学再生。

  抛光混床,一般用于超纯水,(DI水设备)去离子水设备的后置处理当中,可以使用超纯水水质达到18.2M以上,能有效去除二氧化硅小于10ug/L。抛光树脂,属于混床的耗材,当水质不达标准时需要更换。   

去离子水设备抛光树脂用前须知及抛光树脂更换方法

  1.抛光树脂( MB-400)是由高度纯化、转型的H型阳树脂和OH型阴树脂混合而成,如果装填和操作得当,在最初的周期中即可制备出电阻率大于18.0MΩ.cm和TOC小于10ppb的超纯水,无需化学再生。

  2.树脂开封后长时间暴露在空气中会吸收二氧化碳,从而影响产品的性能及使用。因此一旦拆包需尽快使用。不使用部分须小心密封,存放于避光阴凉处,环境温度以5-40℃为宜。

  3.在运输、储存和装填过程中,任何无机或有机物质的接触都会使树脂受到污染,从而降低出水水质;影响运行工况。因此必须保证所有用于装填、操作的设备和水不会污染树脂。所有与树脂接触的水都必须使用高纯水(本文中所涉及到的水均指“高纯水”,即电阻率大于等于10MΩ.cm,同时TOC尽可能低于30ppb的水),所有接触树脂的设备或器具都要在使用前经过高纯水清洗。

  4.如为换装树脂,设备中原有的旧树脂必须完全从树脂容器中移去,树脂容器内部清洁无杂质。

  人们常说的抛光树脂一般用于超纯水处理系统末端,来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。抛光树脂出厂的离子型态都是H、OH型,装填后即可使用无需酸碱再生。

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