某地四层框架结构工业研发大楼电气施工图
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2014年06月16日 13:10:02
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图纸简介: 本工程为生产研发大楼,总建筑面积15528.2M2。建筑层数:地上5层。建筑高度:顶层檐口至室外地面高度为22.15M。本设计包括红线内的以下内容:变配电室设计及土建条件待高压供电方案确定后出图;电力配电系统;照明配电系统;建筑物防雷、接地系统及安全措施;弱电系统预留进、出建筑物过墙管,预留竖向通道及线槽,预留每层水平线槽。共19张图纸。







图纸简介:

本工程为生产研发大楼,总建筑面积15528.2M2。建筑层数:地上5层。建筑高度:顶层檐口至室外地面高度为22.15M。本设计包括红线内的以下内容:变配电室设计及土建条件待高压供电方案确定后出图;电力配电系统;照明配电系统;建筑物防雷、接地系统及安全措施;弱电系统预留进、出建筑物过墙管,预留竖向通道及线槽,预留每层水平线槽。共19张图纸。






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