我们采用UF+NF+双级RO+混床+抛光混床工艺，水源是另外一个水站的RO浓水和少量处理达标的废水，现在RO出水5us/CM,混床出水10兆左右，但经过抛光混床后只能到14兆左右，即使两个抛光混床串联使用也不行，哪位大侠能指点一下？急！！！还有一个问题，我们另外一个工程采用自来水为水源，工艺为砂滤器+碳滤器+软化+双级RO+EDI,已运行3年，以往EDI产水可稳定在16~17兆以上，最近刚刚更换膜堆，进水电导率8us/cm,但产水电阻率很低，刚开始以为是要再生，所以逐步提高电压到200V左右，但此时电流达到了17A,因为IONPURE规定最大电流是10A,所以没敢多运行，只好降低了电压，但电阻率就一直上不去，现运行已有两周多，电阻率只能到14兆，不知是什么问题？膜堆被烧坏了吗？
还有一个问题，我们另外一个工程采用自来水为水源，工艺为砂滤器+碳滤器+软化+双级RO+EDI,已运行3年，以往EDI产水可稳定在16~17兆以上，最近刚刚更换膜堆，进水电导率8us/cm,但产水电阻率很低，刚开始以为是要再生，所以逐步提高电压到200V左右，但此时电流达到了17A,因为IONPURE规定最大电流是10A,所以没敢多运行，只好降低了电压，但电阻率就一直上不去，现运行已有两周多，电阻率只能到14兆，不知是什么问题？膜堆被烧坏了吗？
